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對于國產芯來說，“制程”二字是始終無法忽視的門檻，因此關鍵的光刻機設備就顯得至關重要。而ASML這家高端光刻機領域的巨頭也收獲了國人數不盡的關注。

近日，ASML中國區總裁沈波在中國集成電路制造年會上的一些言論，讓我們看到了最先進光刻機入華的曙光。

沈波稱，今年下半年ASML已經開始出貨最先進的傳統沉浸式光刻機NXT:2000i，而該設備也很快會在中國市場上見到。

此前有媒體消息稱，中芯國際已經向ASML訂購了一臺EUV光刻機，用于目前最先進的7nm制程研發，預計將于2019年交付。而長江存儲與上海華虹半導體也分別向ASML訂購了193nm沉浸式光刻機NXT:1980Di，用于存儲芯片和晶圓的制造。

7nm制程的研發無疑是困難的，如聯電和格羅方德已經宣布放棄7nm及更高制程工藝的研發，但ASML依然看好EUV光刻機的前景——他們計劃在明后兩年將EUV光刻機的產能由目前的20臺提升至40臺。

或許是大陸市場目前與美國持平、已經超過臺灣地區，高達20%占比的銷售收入給了ASML這樣的信心，也或許是中國對于追趕制程工藝的決心。目前業界對于7nm以上的制程工藝研發可以概括為“沒有思路”，幾近停滯的現狀也給了中國追趕的契機。

無論如何，如果ASML最先進的光刻機能夠入華，將無疑是中國芯的曙光。