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根據(jù)日本媒體的報(bào)道，佳能面向半導(dǎo)體電路光刻工序推出了搭載自主研發(fā)的「納米壓印」技術(shù)設(shè)備，這套設(shè)備可以大幅降低成本以及耗電量，備受半導(dǎo)體廠商的期待，而且目前可以生產(chǎn)為2nm的產(chǎn)品。

根據(jù)佳能半導(dǎo)體機(jī)器業(yè)務(wù)部長(zhǎng)巖本和德的介紹，納米壓印就是把半導(dǎo)體電路圖的掩膜壓印到晶圓上，在晶圓上只壓印一次，就可以在合適的位置形成復(fù)雜的二維或者三維電路，如果改進(jìn)掩膜，甚至可以生產(chǎn)2nm的產(chǎn)品。

納米壓印的特點(diǎn)是設(shè)備構(gòu)造簡(jiǎn)單，相較于傳統(tǒng)刻燒電路的方法，納米壓印的耗電量可降至1/10，設(shè)備價(jià)格也會(huì)便宜很多。據(jù)估算，納米壓印1次光刻工序需要的成本可以降至傳統(tǒng)光刻設(shè)備的一半。

巖本和德還介紹，在2017年時(shí)，佳能便與鎧俠、大日本印刷合作開發(fā)，納米壓印技術(shù)的量產(chǎn)用途的實(shí)用化已經(jīng)有眉目，可以面向客戶銷售，另外納米壓印技術(shù)目前全球只有佳能在做，進(jìn)入門檻也很高。

2000年左右，日本與尼康曾占據(jù)了世界光刻設(shè)備很大一部分市場(chǎng)，然而隨著荷蘭SAML開發(fā)出EUV光刻設(shè)備，市場(chǎng)隨即被洗牌，EUV成為尖端半導(dǎo)體光刻的主流，佳能也流失了大部分市場(chǎng)。

如今佳能十年磨一劍推出納米壓印技術(shù)，有一種要重新奪回光刻市場(chǎng)的架勢(shì)。不過目前ASML也已經(jīng)向英特爾交付首臺(tái)2nm EUV光刻機(jī)，短時(shí)間能佳能想要依靠納米壓印技術(shù)對(duì)抗ASML，或許希望并不大。